二硅化钼

　　名称：二硅化钼;molybdenum disiticide

　　资料：分子式：mosi2

　　cas号：

　　熔点：2030℃

　　密度：6.24g/cm3

　　电阻率：21.5×10-6ω.㎝

　　热导率：45w/m.k

　　热膨胀系数：7.8×10-6/k

　　性质：mosi2是mo－si二元合金系中含硅量Zui高的一种中间相，是成分固定的道尔顿型金属间化合物。具有金属与陶瓷的双重特性，是一种性能优异的高温材料。极好的高温抗氧化性，抗氧化温度高达1600℃以上，与sic相当；有适中的密度(6.24g/cm3)；较低的热膨胀系数(8.1×10-6k-1)；良好的电热传导性；较高的脆韧转变温度(1000℃)以下有陶瓷般的硬脆性。在1000℃以上呈金属般的软塑性。mosi主要应用作发热元件、集成电路、高温抗氧化涂层及高温结构材料。

采用mosi2粉末*结方法，在sic电热元件表面制备一层致密的mosi2高温抗氧化涂层，并对其高温抗氧化性进行测试。抗氧化试验在空气中1500℃炉温下进行118h和32次热循环，结果表明，带有mosi2涂层的试样表面致密光洁，且试样抗氧化性能随mosi2涂层厚度增加。sem和epma显微分析表明，mosi2涂层与sic基体结合较好，没有起层和剥落，涂层中mo分布均匀，损失约为20％

硅化钼于1906年发现，硅和钼在不同条件下，可形成硅化三钼（mo3si）、三硅化五钼（mo5si3）和二硅化钼（mosi2）。

　　三种硅化钼中Zui主要是二硅化钼(mosi2)，是一种道尔顿型金属间化合物，其晶体结构中的原子结合呈现金属键和共价键共存的特征，具有优良的高温本质特征。

　　早在1907年，二硅化钼(mosi2)就用作金属的高温防腐涂层材料，20世纪50年代出现了二硅化钼(mosi2)电热元件。

　　二硅化钼(mosi2)作为结构材料是在50年代初首次提出的，但直到70年代，随着脆性材料作为结构材料这一概念的出现，才被重视。80年代发生了飞跃性的进展，其研究工作，在世界范围内广泛开展起来。

　　中文名称：二硅化钼

　　英文名称：molybdenum disilicide；molybdenum silicide

　　分子式：mosi2

　　熔点：2030℃

　　密度：6.28g/cm

　　电阻率：21.5×10ω·cm

　　热导率：45w/mk

　　热膨胀系数：7.8×10/k

　　二硅化钼的应用于高温抗氧化涂层材料、电加热元件、集成电极薄膜、结构材料、复合材料的增强剂、耐磨材料、结构陶瓷的连接材料等领域，分布在以下几个行业：

　　1）能源化学工业：电加热元件、原子反应堆装置的高温热交换器、气体燃烧器、高温热电偶及其保护管、熔炼器皿坩埚（用于熔炼钠、锂、铅铋、锡等金属）。

　　2）微电子工业：mosi2与其他一些难熔金属硅化物ti5si3、wsi2、tasi2等是大规模集成电路栅极及互连线薄膜重要的候选材料。

　　3）航空航天工业：作为高温抗氧化涂层材料得到广泛而深入的研究和应用。特别是作为涡轮发动机构件，如叶片、叶轮、燃烧器、尾喷管及密封装置的材料。

4）汽车工业：汽车用涡轮发动机增压器转子、气门阀体、火花塞以及发动机零部件。